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多弧离子镀设备的结构和组成部分

信息来源于:互联网 发布于:2024-02-28

多弧离子镀设备的结构和组成部分主要包括以下几个部分:

主机:多弧离子镀设备的主要部分,包括真空室、电源供应系统、控制系统等。主机通常由金属材料制成,具有良好的密封性能,能够创建和维持高真空环境。

蒸发源:用于蒸发目标材料的部件。蒸发源通常由金属坩埚、加热元件和控制系统组成,可以将目标材料加热至蒸发温度,并且控制蒸发源的功率和温度。

离子源:用于产生离子束的部件。离子源通常包括离子发生器、加速器和聚焦系统等,能够将蒸发的金属气体转化为带电的离子束,用于轰击目标物体的表面。

沉积室:用于放置待镀物体的空间。沉积室应具有较大的容积,能够容纳不同尺寸和形状的物体。同时,沉积室内也需要具备良好的真空密封性能,以保持高真空环境。

控制系统:用于控制和监测设备的运行状态和参数。控制系统包括温度控制、真空度监测、电源控制、离子束控制等部分,能够实现对设备的自动化控制和调节。

除了以上主要部分,多弧离子镀设备还包括真空泵系统、冷却系统、气体供应系统等辅助设备和部件,以确保设备的正常运行和薄膜沉积过程的稳定性。